The next step in semiconductor manufacturing presented by Dai Nippon Printing! The impact of 10nm...
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The next step in semiconductor manufacturing presented by Dai Nippon Printing! The impact of 10nm...
大日本印刷（DNP）が 10nmのナノインプリントリソグラフィ（NIL）型を達成。 光を使わず型で転写するNILは EUV露光に比べ消費電力を約1/10に抑えられる。 1.4nm世代相当の最先端ロジック半導体にも対応可能とされ 製造工程の新たな選択肢として注目されている ...
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