ASML Developing Next-Gen EUV Lithography
ASML Developing Next-Gen EUV Lithography
Dec 5, 2018
ieee.org
在ASML下一代的高數值孔徑EUV設備 (High-NA EUV system) 中，反射鏡的技術已發展至登峰造極：如果將設備中的一面反射鏡想像成地球的大小，那麼鏡面上最大的誤差就只有人類頭髮那麼小！讓我們向創造如此工藝極限的合作夥伴 ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology 致敬🌟 #ASML #EUV #ZEISS | ASML
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在ASML下一代的高數值孔徑EUV設備 (High-NA EUV system) 中，反射鏡 …
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The full EUV optical light path - Inside the TWINSCAN NXE:3400 EUV lithography machine | ASML on Make a GIF
The full EUV optical light path - Inside the TWINSCAN NXE:3400 E…
Jun 21, 2023
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The $200M Machine that Prints Microchips: The EUV Photolithography System
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3 months ago
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The 4 Wildest Facts About ASML's EUV Machines
The 4 Wildest Facts About ASML's EUV Machines
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＼ASML Tech｜1秒間に5万回生成されるEUV（極端紫外線光）／ スマートフォンやパソコンの頭脳となる半導体チップ。その製造過程をご存じですか？ ASMLのHigh-NA EUV露光装置は、現代の技術の粋を集めた機械。極小のチップパターンを量産するために、精密な技術が組み合わさっています。その中の1つが、ASML独自の技術である「EUV」です。 では4つのステップに分けてご紹介します💡 ーーーーーーーーーーーー ①人間の髪の毛の1/3ほどの小さな錫（すず）の液滴を作り出す ②レーザーを当て液滴をパンケーキのように平らに伸ばす ③再度レーザーを当て、太陽の表面温度の40倍もの温度でプラズマを生成する ④プラズマからEUV光が放射される ーーーーーーーーーーーー この工程を1秒間に5万回も繰り返しているんです😲 私たちの生活をより便利に、より豊かにする最先端チップは、こうした技術に支えられています。 #ASML #BePartOfProgress | ASML
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＼ASML Tech｜1秒間に5万回生成されるEUV（極端紫外線光）／ ス …
908 viewsOct 1, 2024
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＼ASML Tech｜EUV露光装置の中には空気がない？／ 露光に使われるEUV光はあらゆるものに吸収されやすい性質を持っています。実は、空気にさえ吸収されてしまい、そのパワーが弱まってしまうのです。 そこでASMLではEUV光のパワーを保つために、光源からウェハに到達するまでの製造工程において、空気がない真空状態にすることを実現しました。装置内を掃除機の約10万倍の負圧にして真空状態にすることで、EUV光が吸収されることを防いでいます。 目には見えない技術によって、精密な半導体は作られているのです。 EUVの独自技術について詳しく知りたい方はこちらへ 👉https://reurl.cc/jvVZW2 #ASML #BePartOfProgress | ASML
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＼ASML Tech｜EUV露光装置の中には空気がない？／ 露光に使われるE…
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Inside the machine: How a High NA system generates EUV light | ASML
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＼ASML Tech｜独自に開発したEUV光（極端紫外線）／ 露光装置におい …
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【ASML EUV極紫外光設備｜從0到100的旅程🗺】 在10年密集的研發後…
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ASMLホールディング【ASML】半導体露光装置で圧倒的シェアでEUV …
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