半導体製造を支えるCVDとALD：薄膜形成技術の基礎知識 半導体デバイスの性能は、薄膜形成技術の精度に直結しています。 CVD（化学気相成長）とALD（原子層堆積）は、現代の半導体製造において中核を担う成膜プロセスです。 本記事では、プロセス ...

～世界最高水準の厚膜CVD-SiC技術で光学産業に革新を～ TESは、国の開発支援プログラム「サポイン事業」などを活用し、CVD法によるSiC製造技術の開発を進めてきました。従来のCVD法による皮膜層は数十μm程度の厚みが限界とされてきましたが、当社は独自 ...

まずStandl氏は、糖尿病がCVDの強力なリスク因子であることを示した最初の報告は、1998年のEast West Studyであろうと述べた。同 ...

Gemesis社製のこれらのCVD合成ダイヤモンドは、0.24～0.90カラットである。 写真：Robert Weldon この連載のパート1では、CVD合成ダイヤモンドの歴史を簡単に説明しました。 CVD合成ダイヤモンドの物理的特性は、硬度、熱伝導率、強度などの点で天然ダイヤモンド ...

FPD(フラットパネルディスプレイ)生産では、ガラス基板に350℃以下の低温でシリコン酸化膜を形成する必要がある。現在、第6世代以上の大型FPD、モバイル用小型高性能FPDの生産ではプラズマCVD(化学気相成長)方式やスパッタリング方式を使用しているが ...

立命館大学総合科学技術研究機構(滋賀県草津市)の金子健太郎教授(半導体応用研究センター〈RISA〉センター長、立命館先進研究アカデミー〈RARA〉フェロー)、同大学大学院理工学研究科の荒木努教授、同研究科博士前期課程2回生の服部太政さんらの研究 ...