As extreme ultraviolet (EUV) lithography moves closer to production, the industry is paying more attention to a problematic phenomenon called mask 3D effects. Mask 3D effects involve the photomask for ...
アドバンテストは11月19日、独自の電子ビーム走査技術を用いてマスクやパターンドメディアの微細パターン寸法を高精度に測定できる、最新の多次元観察・測長走査型電子顕微鏡(MASK MVM-SEM)「E3640」を発表した。 スマートフォンなどの活況を背景に、半導体 ...
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