株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる最先端リソグラフィの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「最先端リソグラフィ技術 ...

China has built a prototype EUV (extreme ultraviolent) lithography machine in a high-security laboratory in Shenzhen. They had a semiconductor Manhattan Project”. The prototype was completed in early ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫）は、次世代半導体露光技術と目されるEUVリソグラフィに特化した書籍を5月23日付で発刊いたしました。 ★EUVリソグラフィの概要・微細化の変遷にはじまり、レジスト材料・光源・露光 ...

サーベイレポート合同会社は、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の予測評価を提供する2024年8月発行の調査レポート「極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別セグメント（光、光源、オプティクス、マスク、その他）、エンドユーザー別セグメント ...

2ナノメートル世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセス開発を加速 NEDOによる「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」にRapidusの再委託先として参画 大日本印刷株式会社（本社 : 東京 代表取締役社長 : 北島義斉 以下 : DNP）は、半導体 ...

Scientists at a high-security Shenzhen laboratory earlier this year built “what Washington has spent years trying to prevent”: a prototype EUV lithography machine, according to a Reuters report on ...

すでにimecは2025年2月に開催された「2025 SPIE Advanced Lithography and Patterning」において20nmピッチのメタルライン形成を実証しているが、今回、単一露光による高NA EUV工程でのT2Tにおける13nm CDの20nmピッチライン構造では、局所CD均一性(Local Critical Dimension Uniformity:LCDU ...

imecは2024年8月に、単一の高NA EUV露光でパターニングされたロジックとDRAMの良好なパターン結果を公表していた。 この成果を踏まえimecは新たなステップとして今回、金属酸化物(MOR)ネガトーンレジストを用いた単一の高NA EUVパターン化後に得られた20nmピッチ ...

Intelが、「Intelの中で最も精密で複雑なマシン」と言われる「EUVシステム」に迫ったムービーを公開しています。EUVは、近年「限界を迎えつつある」と指摘されるムーアの法則を追求するための技術。Intelが何をしようとしていて、EUVシステムはどのような ...

EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成 次世代半導体向けた高NA EUVフォトマスクの評価用フォトマスクの提供も開始 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の ...

～強みの半導体ALD材料技術で先端フォトレジストの技術革新に貢献～ 株式会社ADEKA（代表取締役社長兼社長執行役員: 城詰秀尊、本社：東京都荒川区）は、鹿島化学品工場（茨城県神栖市）に次世代EUVリソグラフィ（高NA EUV）向けMOR用金属化合物の ...