キヤノントッキは5月27日、電子デバイス向けスパッタリング装置向けに、従来の円筒カソードと比較し、膜厚均一性を3ポイント向上となる±2.1%に向上させるとともに、成膜速度を2倍に高めることを可能とするスパッタリングシステム「RR(Reactive Rotary-cathode ...

株式会社グローバルインフォメーション（所在地：神奈川県川崎市、代表者：樋口 荘祐、証券コード：東証スタンダード 4171）は、市場調査レポート「スパッタリング装置市場の2030年までの予測： タイプ別、システム別、基板タイプ別、用途別、地域別の ...

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Sputtering targets are the source materials for the preparation of sputtered thin films. In particular, high-purity sputtering targets are used in the physical vapor deposition (PVD) process for the ...

The Hummer 6.2 Sputtering System by Anatech is a vacuum coating instrument used for applying thin, uniform metal coatings to samples, often for scanning electron microscopy (SEM). It operates through ...

*****「金属・合金スパッタリングターゲット材料の世界市場」調査資料（国内市場規模も記載）を発行、年平均4.1％成長 ***** H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、「世界の金属・合金スパッタリングターゲット材料市場」調査レポート ...

株式会社グローバルインフォメーション（所在地：神奈川県川崎市、代表者：樋口 荘祐、証券コード：東証スタンダード 4171）は、市場調査レポート「スパッタリング装置の世界市場」（Global Industry Analysts, Inc.）の販売を6月12日より開始いたしました。