Sputtering targets are the source materials for the preparation of sputtered thin films. In particular, high-purity sputtering targets are used in the physical vapor deposition (PVD) process for the ...

独自に開発した高圧プラズマスパッタリングを用いて、ナノ構造が均一に分散したゲルマニウム(Ge)負極膜を、単一ステップ工程で作製することに成功。 ナノ構造ゲルマニウムスズ(GeSn)負極膜を用いたLiイオン電池で1,000 mAh/g以上の高容量を実証。

*****「クロム銅スパッタリングターゲットの世界市場」市場規模予測・企業動向レポートを発行 ***** H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、「世界のクロム銅スパッタリングターゲット市場」調査レポートを発行・販売します。クロム銅 ...

産業技術総合研究所(産総研)とキヤノンアネルバは3月18日、ドライプロセスだけで形成したカドミウム(Cd)を含まないCIGS太陽電池において、従来の手法である部分的にウェットプロセス(溶液成長法)を用いた場合に近い光電変換効率を実現する技術を開発した ...