独自に開発した高圧プラズマスパッタリングを用いて、ナノ構造が均一に分散したゲルマニウム(Ge)負極膜を、単一ステップ工程で作製することに成功。 ナノ構造ゲルマニウムスズ(GeSn)負極膜を用いたLiイオン電池で1,000 mAh/g以上の高容量を実証。

JST（理事長 北澤宏一）はこのほど、独創的シーズ展開事業・委託開発の開発課題「大面積プラズマ支援スパッタリング法による自浄性ガラスの製造技術」の開発結果を、成功と認定しました。 本開発課題は、富山県立大学 名誉教授 石井成行らの研究成果を ...

*****「クロム銅スパッタリングターゲットの世界市場」市場規模予測・企業動向レポートを発行 ***** H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、「世界のクロム銅スパッタリングターゲット市場」調査レポートを発行・販売します。クロム銅 ...

アルバックは3月13日、IGBTなどのパワーデバイスの裏面電極向けに、スパッタリングによる「はんだ直接成膜プロセス」を開発した。従来の裏面電極で用いられる金(Au)成膜をはんだスパッタ成膜で代替し、膜材料コストを約50%削減するもの。同技術の詳細は ...

産業技術総合研究所(産総研)とキヤノンアネルバは3月18日、ドライプロセスだけで形成したカドミウム(Cd)を含まないCIGS太陽電池において、従来の手法である部分的にウェットプロセス(溶液成長法)を用いた場合に近い光電変換効率を実現する技術を開発した ...