High power magnetron sputtering techniques have become essential tools in the deposition of advanced thin films. By utilising high power pulses, these methods generate highly ionised plasmas that ...

The MEGA coating system (multi-source magnetron sputtering system) enables the production of new types of metallic or ceramic coatings in monolithic, graded or multi-layer arrangements using 7 ...

独自に開発した高圧プラズマスパッタリングを用いて、ナノ構造が均一に分散したゲルマニウム(Ge)負極膜を、単一ステップ工程で作製することに成功。 ナノ構造ゲルマニウムスズ(GeSn)負極膜を用いたLiイオン電池で1,000 mAh/g以上の高容量を実証。

JST（理事長 北澤宏一）はこのほど、独創的シーズ展開事業・委託開発の開発課題「大面積プラズマ支援スパッタリング法による自浄性ガラスの製造技術」の開発結果を、成功と認定しました。 本開発課題は、富山県立大学 名誉教授 石井成行らの研究成果を ...

三菱マテリアル株式会社(取締役社長:小野直樹、資本金:1,194億円)の電子材料事業カンパニーは、半導体ファインピッチプロセスに対応した拡散防止膜用W-Ti(タングステンーチタン)スパッタリングターゲットを開発し、7月から量産を開始しましたので、お知ら ...

*****「クロム銅スパッタリングターゲットの世界市場」市場規模予測・企業動向レポートを発行 ***** H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、「世界のクロム銅スパッタリングターゲット市場」調査レポートを発行・販売します。クロム銅 ...