マグネトロンスパッタリング光学塗布装置の定義と市場概況 マグネトロンスパッタリング光学塗布装置は、磁控スパッタリング（Magnetron Sputtering）技術を用いて光学基板表面に高均一性・低欠陥率の薄膜を堆積させる真空加工装置である。その核心的な役割 ...

独自に開発した高圧プラズマスパッタリングを用いて、ナノ構造が均一に分散したゲルマニウム(Ge)負極膜を、単一ステップ工程で作製することに成功。 ナノ構造ゲルマニウムスズ(GeSn)負極膜を用いたLiイオン電池で1,000 mAh/g以上の高容量を実証。

名城大学（名古屋市天白区）の内田儀一郎教授らのグループが、九州大学、大阪大学と協力して、独自の高圧Heプラズマ ...

JST（理事長 北澤宏一）はこのほど、独創的シーズ展開事業・委託開発の開発課題「大面積プラズマ支援スパッタリング法による自浄性ガラスの製造技術」の開発結果を、成功と認定しました。 本開発課題は、富山県立大学 名誉教授 石井成行らの研究成果を ...

NECエレクトロニクスは，GHz帯の周波数領域で効率的に電磁場を閉じ込められる高抵抗のフェライト酸化物磁性膜を，LSI製造との整合性に優れた低温プロセスで形成することに成功した。NiZnフェライトを，300℃と低温のスパッタリング・プロセスで形成する。

*****「クロム銅スパッタリングターゲットの世界市場」市場規模予測・企業動向レポートを発行 ***** H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、「世界のクロム銅スパッタリングターゲット市場」調査レポートを発行・販売します。クロム銅 ...

アルバックは3月13日、IGBTなどのパワーデバイスの裏面電極向けに、スパッタリングによる「はんだ直接成膜プロセス」を開発した。従来の裏面電極で用いられる金(Au)成膜をはんだスパッタ成膜で代替し、膜材料コストを約50%削減するもの。同技術の詳細は ...

産業技術総合研究所(産総研)とキヤノンアネルバは3月18日、ドライプロセスだけで形成したカドミウム(Cd)を含まないCIGS太陽電池において、従来の手法である部分的にウェットプロセス(溶液成長法)を用いた場合に近い光電変換効率を実現する技術を開発した ...

三菱マテリアル株式会社(取締役社長:小野直樹、資本金:1,194億円)の電子材料事業カンパニーは、半導体ファインピッチプロセスに対応した拡散防止膜用W-Ti(タングステンーチタン)スパッタリングターゲットを開発し、7月から量産を開始しましたので、お知ら ...