Orora Visual is pleased to announce its substantial investment in a revolutionary water and chemical-free lithography (offset printing) plate making process. The Fujifilm SUPERIA ZX is a breakthrough ...

5ナノメートル対応 EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発 マルチ電子ビームマスク描画装置を利用して高い生産性・精度を実現 大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 資本金:1,144億円 以下:DNP）は、マルチ電子ビームを使う ...

ベルギーの独立系先端半導体研究機関imecは、日本をはじめ海外の企業とも積極的に協業して、7nmおよびそれ以降のプロセス開発のための次世代リソグラフィ(多重露光液浸ArF露光およびEUV露光)の実用化を急いでいる。 Novaと協業して進める4重露光液浸ArF露光 ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、 ナノインプリント・リソグラフィでの技術者の課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の執筆陣からなる「ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望～EUVL ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向け講座の一環として、昨今高まりを見せる「EUVリソグラフィ」における課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィ」講座を ...

Fig. 1 The lithography process. The projection lithography system. The advancement of semiconductor manufacturing is a key driver of electronic device innovations. As Moore’s Law progresses, ...

Huawei has confirmed in a posting on its website reports about its breakthrough in making a light source component used in EUV lithography systems which are required for making high-end processors on ...