半導体を製造するうえで必ず必要となる「フォトマスク」。その役割は、フォトマスク上に描かれた回路パターンをリソグラフィプロセスにおいてウェハに転写するというもので、成熟プロセスであっても先端プロセスでも、大きな意味では利用方法に違い ...

5ナノメートル対応 EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発 マルチ電子ビームマスク描画装置を利用して高い生産性・精度を実現 大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 資本金:1,144億円 以下:DNP）は、マルチ電子ビームを使う ...

大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、3ナノメートル（nm）相当のフォトマスク製造プロセスを開発しました。スマートフォンや ...

TOKYO - Sept. 9, 2010 - Toppan Printing Co., Ltd. today announced that it has developed a photomask manufacturing process at its facility in Asaka, Japan, to support 22nm and 20nm semiconductor device ...

Glass masks contribute to EUV mask blanks market expansion by offering exceptional surface smoothness, dimensional stability, ...