株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫）は、次世代半導体露光技術と目されるEUVリソグラフィに特化した書籍を5月23日付で発刊いたしました。 ★EUVリソグラフィの概要・微細化の変遷にはじまり、レジスト材料・光源・露光 ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるEUVリソグラフィ技術での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィ 」講座を ...

ノートPCやスマートフォン、AIサーバーなど、既存のハイテク機器の内部には最先端の半導体が組み込まれています。この中には数百億個ものトランジスタが詰め込まれており、そのサイズは最小10nmほどと極小です。そんな超極小のトランジスタを製造する ...

大阪大学 招聘教授 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 [画像1: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/80053/977/80053-977 ...

*****「ナノインプリントリソグラフィー消耗品の世界市場」調査資料（国内市場規模も記載）を発行 ***** H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、「世界のナノインプリントリソグラフィー消耗品市場」調査レポートを発行・販売します。

Intelが2024年4月18日、アメリカ・オレゴン州ヒルズボロの研究開発拠点で、業界初となる商用高開口数(NA)極端紫外線(EUV)リソグラフィの組み立てを完了したと発表しました。このEUVリソグラフィはオランダの半導体装置大手・ASML製であり、1.4nmプロセスに相当 ...

大阪大学 招聘教授 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる最先端リソグラフィの課題解決ニーズに応えるべく ...