株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、 R&D開発支援向けZoom講座の一環として昨今高まりを見せる「ナノインプリント」の課題解決ニーズに応えるべく、 複数の専門家による「光学デバイスと半導体製造技術へ ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、 ナノインプリント・リソグラフィでの技術者の課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の執筆陣からなる「ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望～EUVL ...

5ナノメートル対応 EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発 マルチ電子ビームマスク描画装置を利用して高い生産性・精度を実現 大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 資本金:1,144億円 以下:DNP）は、マルチ電子ビームを使う ...

ベルギーの独立系先端半導体研究機関imecは、日本をはじめ海外の企業とも積極的に協業して、7nmおよびそれ以降のプロセス開発のための次世代リソグラフィ(多重露光液浸ArF露光およびEUV露光)の実用化を急いでいる。 Novaと協業して進める4重露光液浸ArF露光 ...

カリフォルニア州サンタクララ — GTC — 2023 年 3 月 21 日 — NVIDIA は本日、コンピュテーショナル リソグラフィの分野にアクセラレーテッド コンピューティングをもたらすブレイクスルーを発表しました。これは現在、製造プロセスが物理学的限界へと ...

Lithography, once the exclusive domain of artists and printmakers, also lies at the heart of integrated circuit (IC) production. The process of shining light on a substrate through a photomask to ...

ベルギーimecと半導体露光装置メーカーのASMLは、2月23日～27日に米国カリフォルニア州サンノゼで開催された「SPIE Advanced Lithography Conference」にて、3nmテクノロジーノードプロセスのFEOL(トランジスタ形成)に対応するBEOL(バックエンド多層配線)としてEUVの単一 ...

鴨志田技術事務所 代表（元JSR(株)／神奈川大学）、フォトポリマー懇話会顧問、高分子学会フェロー 鴨志田 洋一 氏 にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の ...

Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「半導体高集積化技術」における課題解決ニーズ ...