株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、 R&D開発支援向けZoom講座の一環として昨今高まりを見せる「ナノインプリント」の課題解決ニーズに応えるべく、 複数の専門家による「光学デバイスと半導体製造技術へ ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、 ナノインプリント・リソグラフィでの技術者の課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の執筆陣からなる「ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望～EUVL ...

5ナノメートル対応 EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発 マルチ電子ビームマスク描画装置を利用して高い生産性・精度を実現 大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 資本金:1,144億円 以下:DNP）は、マルチ電子ビームを使う ...

【プレスリリース】発表日:2026年02月27日Rapidus社に出資 次世代半導体の量産体制構築を支援EUVリソグラフィ向けフォトマスクの開発・量産化を加速大日本印刷株式会社（本社 : 東京 代表取締役社長 : 北島義斉 以下 : DNP）はRapidus株式会社（本社 : 東京 代表取締役社長兼CEO : 小池淳義）に対し出資しました。本出資は、同社のEUV（Extreme Ultr ...

Intelが2024年4月18日、アメリカ・オレゴン州ヒルズボロの研究開発拠点で、業界初となる商用高開口数(NA)極端紫外線(EUV)リソグラフィの組み立てを完了したと発表しました。このEUVリソグラフィはオランダの半導体装置大手・ASML製であり、1.4nmプロセスに相当 ...

ところで、EUVリソグラフィは光源開発が遅れて、スループット(1時間当たりのウェハ処理枚数;WPH)がなかなか上がらず、量産導入が長年にわたって見送られてきた経緯がある。しかし、最近になって、ASML社内では出力250W(実測値は246W)の光源を用いて140WPH ...

ベルギーの独立系先端半導体研究機関imecは、日本をはじめ海外の企業とも積極的に協業して、7nmおよびそれ以降のプロセス開発のための次世代リソグラフィ(多重露光液浸ArF露光およびEUV露光)の実用化を急いでいる。 Novaと協業して進める4重露光液浸ArF露光 ...

Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「半導体高集積化技術」における課題解決ニーズ ...