5ナノメートル対応 EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発 マルチ電子ビームマスク描画装置を利用して高い生産性・精度を実現 大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 資本金:1,144億円 以下:DNP）は、マルチ電子ビームを使う ...

ところで、EUVリソグラフィは光源開発が遅れて、スループット(1時間当たりのウェハ処理枚数;WPH)がなかなか上がらず、量産導入が長年にわたって見送られてきた経緯がある。しかし、最近になって、ASML社内では出力250W(実測値は246W)の光源を用いて140WPH ...

カリフォルニア州サンタクララ — GTC — 2023 年 3 月 21 日 — NVIDIA は本日、コンピュテーショナル リソグラフィの分野にアクセラレーテッド コンピューティングをもたらすブレイクスルーを発表しました。これは現在、製造プロセスが物理学的限界へと ...

Intelが2024年4月18日、アメリカ・オレゴン州ヒルズボロの研究開発拠点で、業界初となる商用高開口数(NA)極端紫外線(EUV)リソグラフィの組み立てを完了したと発表しました。このEUVリソグラフィはオランダの半導体装置大手・ASML製であり、1.4nmプロセスに相当 ...

ベルギーの独立系先端半導体研究機関imecは、日本をはじめ海外の企業とも積極的に協業して、7nmおよびそれ以降のプロセス開発のための次世代リソグラフィ(多重露光液浸ArF露光およびEUV露光)の実用化を急いでいる。 Novaと協業して進める4重露光液浸ArF露光 ...

半導体業界が物理学的限界に向かう中、業界のリーダーたちがコンピュテーショナル リソグラフィにおける NVIDIA のブレイクスルーを採用 カリフォルニア州サンタクララ — GTC — 2023 年 3 月 21 日 — NVIDIA は本日、コンピュテーショナル リソグラフィの分野 ...

鴨志田技術事務所 代表（元JSR(株)／神奈川大学）、フォトポリマー懇話会顧問、高分子学会フェロー 鴨志田 洋一 氏 にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の ...

Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「半導体高集積化技術」における課題解決ニーズ ...

The company showcased its holistic lithography portfolio, which integrates lithography systems, computational software, metrology, and inspection solutions. India’s semiconductor market is projected ...