株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、 R&D開発支援向けZoom講座の一環として昨今高まりを見せる「半導体・リソグラフィ技術」のニーズに応えるべく、専門家による「リソグラフィ用レジスト開発」について ...
Imec demonstrates breakthrough technique to reduce EUV lithography dose requirements, boosting wafer throughput.
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる半導体レジスト・リソグラフィでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「半導体レジスト ...
Metal-oxide resists (MORs) have emerged as leading candidates for advanced EUV lithography applications, offering superior resolution, reduced line-edge roughness, and good EUV dose-to-size ...
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