ベルギーの独立系先端半導体研究機関imecは、日本をはじめ海外の企業とも積極的に協業して、7nmおよびそれ以降のプロセス開発のための次世代リソグラフィ(多重露光液浸ArF露光およびEUV露光)の実用化を急いでいる。 Novaと協業して進める4重露光液浸ArF露光 ...
Researchers review AI-powered inverse lithography, showing how deep learning boosts chip patterning precision and efficiency while facing scaling challenges. Computational lithography optimizes the ...
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