大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、3ナノメートル（nm）相当のフォトマスク製造プロセスを開発しました。スマートフォンや ...

KD Market Insightsは、「フォトリソグラフィ材料市場：将来動向および機会分析 ― 2025～2035年」と題した市場調査レポートの発刊を発表しました。本レポートの市場範囲は、現在の市場動向および将来の成長機会に関する情報を網羅しており ...

近年、10nmを下回るような先端半導体プロセスではEUV光源を用いるEUVリソグラフィが量産で活用されるようになっており、2023年には3nmプロセスを採用したロジック半導体の製造も開始されたほか、次世代となる2nmプロセスも2025年ころから量産への適用が ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる半導体レジスト・リソグラフィでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「半導体レジスト ...

九州大学溝口 計 氏、東京工業大学 鈴木 一明 氏、富士フイルム株式会社 藤森 亨 氏、東京エレクトロン株式会社 永原 誠司 氏、AGC株式会社 羽根川 博 氏 にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 ...

――既存技術よりも早期の段階で、1万倍高速な検査の実現も視野―― 【発表のポイント】 フォトリソグラフィを用いた半導体製造プロセスの不良検査について、実際にリソグラフィパターンが顕在化する前の段階で検査できる手法を開発しました。

ベルギーimecは、SPIE(国際光工学会)の年次国際会議「2023 Advanced Lithography + Patterning Conference」にて、先端プロセスにおける ...

SDKI Analyticsの分析調査分析によると、EUVフォトレジスト市場規模は2025年に約6.5億米ドルと記録され、2035年までに市場の収益は約28億米ドルに達すると予測されています。 さらに、市場は予測期間中に約18.5% の CAGR で成長する態勢が整っています。

NEDOによる「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」にRapidusの再委託先として参画 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した ...

回路線幅の微細化が進む半導体市場のニーズに対応 大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、3ナノメートル（nm）相当のフォトマスク ...

Survey Reports LLCは、2025年1月にフォトリソグラフィ用現像剤市場に関する調査レポートを発行したと発表した。同レポートは、フォトリソグラフィ用現像剤市場の予測評価を提供するもので、タイプ別（ポジティブ、ネガティブ現像剤）、用途別（半導体 ...