近年、10nmを下回るような先端半導体プロセスではEUV光源を用いるEUVリソグラフィが量産で活用されるようになっており、2023年には3nmプロセスを採用したロジック半導体の製造も開始されたほか、次世代となる2nmプロセスも2025年ころから量産への適用が ...

ベルギーの独立系先端半導体研究機関imecは、日本をはじめ海外の企業とも積極的に協業して、7nmおよびそれ以降のプロセス開発のための次世代リソグラフィ(多重露光液浸ArF露光およびEUV露光)の実用化を急いでいる。 Novaと協業して進める4重露光液浸ArF露光 ...

SDKI Analyticsの分析調査分析によると、EUVフォトレジスト市場規模は2025年に約6.5億米ドルと記録され、2035年までに市場の収益は約28億米ドルに達すると予測されています。 さらに、市場は予測期間中に約18.5% の CAGR で成長する態勢が整っています。

Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「半導体高集積化技術」における課題解決ニーズ ...

――既存技術よりも早期の段階で、1万倍高速な検査の実現も視野―― 【発表のポイント】 フォトリソグラフィを用いた半導体製造プロセスの不良検査について、実際にリソグラフィパターンが顕在化する前の段階で検査できる手法を開発しました。

NEDOによる「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」にRapidusの再委託先として参画 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した ...

回路線幅の微細化が進む半導体市場のニーズに対応 大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した、3ナノメートル（nm）相当のフォトマスク ...

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