5ナノメートル対応 EUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセスを開発 マルチ電子ビームマスク描画装置を利用して高い生産性・精度を実現 大日本印刷株式会社（本社:東京代表取締役社長:北島義斉 資本金:1,144億円 以下:DNP）は、マルチ電子ビームを使う ...

ウシオ電機、EUVリソグラフィマスク検査用EUV光源を量産プロセス向けとして初検収 ― 先行稼働の研究開発機が高評価、EUV事業を加速 ― ウシオ電機株式会社（本社:東京都、代表取締役社長 内藤 宏治、以下 ウシオ）は、この度、検査装置メーカーより受注 ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫）は、次世代半導体露光技術と目されるEUVリソグラフィに特化した書籍を5月23日付で発刊いたしました。 ★EUVリソグラフィの概要・微細化の変遷にはじまり、レジスト材料・光源・露光 ...

ベルギーの独立系先端半導体研究機関imecは、日本をはじめ海外の企業とも積極的に協業して、7nmおよびそれ以降のプロセス開発のための次世代リソグラフィ(多重露光液浸ArF露光およびEUV露光)の実用化を急いでいる。 Novaと協業して進める4重露光液浸ArF露光 ...

Intelが2024年4月18日、アメリカ・オレゴン州ヒルズボロの研究開発拠点で、業界初となる商用高開口数(NA)極端紫外線(EUV)リソグラフィの組み立てを完了したと発表しました。このEUVリソグラフィはオランダの半導体装置大手・ASML製であり、1.4nmプロセスに相当 ...

NEDOによる「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」にRapidusの再委託先として参画 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した ...

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/）では、 各種材料 ...

Future Landscapes and Lithography with Paul Acevedo Gomez, Celina Jara Tovar, and Emily Moyer Tuesday, February 17th 6-8pm ...

Eリソリサーチ 代表 遠藤 政孝 氏にご講演をいただきます。 株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山 正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「半導体高集積化技術」における課題解決ニーズ ...