大日本印刷(DNP)は12月12日、EUVリソグラフィに対応した2nmプロセス以降の微細ロジックプロセス向けフォトマスク上に求められる微細なパターンを解像することに成功したことを発表した。 2nm世代以降のEUVリソ向けフォトマスクの実現には3nmプロセス世代に ...