静岡・韓国平澤拠点で、EUVレジストとEUV現像液の生産能力を増強 富士フイルム株式会社（本社 : 東京都港区、代表取締役社長・CEO : 後藤 禎一）は、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線（EUV）（*1）向けフォトレジスト（以下、EUV ...

EUVリソグラフィは、ラピダスが目指す2nm世代半導体の実現に向けて重要な技術のひとつとされており、特にリソグラフィ工程は、2nm世代のGAA(ゲートオールアラウンド)構造を形成する要となる工程だ。2nm以前の半導体製造プロセスにおいては、ArF(193nm)液浸 ...

Until now, only one company has mastered EUV technology: ASML, headquartered in Veldhoven, Netherlands. Its machines, which cost around $250 million, are indispensable for manufacturing the most ...

ASML Holding pushes High-NA EUV into fabrication, replacing DUV multi-patterning and powering sub-2nm logic and DRAM as EUV ...

記者会見する九大OIP傘下の新会社「EUVフォトン」の社長に就任する九州大学の浅野種正名誉教授（中）ら（26日、福岡市） 九州大学は26日、最先端の半導体製造に欠かせない極端紫外線（EUV）の技術を持つ新会社、EUVフォトン（福岡市）を設立すると発表した。

Micron Technologyは現地時間の2月25日、1γ nmプロセスを利用したDDR5 DRAMを特定顧客などにサンプル出荷を開始した事を発表した。これに関する説明会が2月27日に日本にて開催されたので、その内容をご紹介する(Photo01)。 Micronは広島工場にて1γ nmプロセスにEUV技術 ...

↓今注目の「投資テーマ」の解説＆銘柄はこちら！↓ 国内の半導体メーカー・ラピダスが、世界のどの企業も 量産化を実現していない「2ナノ半導体」の試作に成功！ 最先端半導体の国産化を目指す半導体製造会社のラピダスは、7月18日に国内で初めて「2 ...

研究代表機関・役職 理化学研究所 光量子工学研究センター特別顧問 研究開発概要 本研究開発では、我が国においてEUV露光に関連する最先端の技術を有する機関と人材を結集し、次世代半導体技術の更なる発展に不可欠とされる革新的基盤技術の研究開発を ...

China is reportedly building one of the most fundamental components of AI computing: the lithograph machines that make advanced AI chips using Extreme Ultraviolet (EUV) light source technology.

Micron Technology’s latest DRAM prototype highlights a sharp divergence from Samsung Electronics and SK Hynix in chip manufacturing, a difference that could shape future industry competition. Micron ...