ASMLは、2023年末までに高NA(NA=0.55)EUV露光装置(試作用)の商用1号機を出荷し、2025年には量産機の出荷を開始することを予定している。これにより、顧客は2025年ごろから、NA=0.33の従来型EUV露光装置によるマルチパターニングから高NA EUV露光装置によるシングル ...

SDKI ...

長春光学・精密機械・物理研究所は、すでに2002年には中国初のEUVリソグラフィ原理確認装置を開発、0.75nm RMSよりも優れた波面収差を有する2ミラーEUVリソグラフィ対物レンズシステムの開発に成功していた。その後も研究を続け、2017年には32nmプロセス対応 ...

KD Market Insightsは、「EUVマスクブランクス市場：将来動向および機会分析（2025～2035年）」と題した市場調査レポートの発刊をお知らせします。本レポートの市場範囲は、現在の市場動向および将来の成長機会に関する情報を網羅しており、読者が十分な情報に基づいたビジネス判断を行うための指針を提供します。本調査レポートでは、KD Market Insightsの研究チームが一次調査お ...

静岡・韓国平澤拠点で、EUVレジストとEUV現像液の生産能力を増強 富士フイルム株式会社（本社 : 東京都港区、代表取締役社長・CEO : 後藤 禎一）は、先端半導体の製造プロセスに用いられるネガ型の極端紫外線（EUV）（*1）向けフォトレジスト（以下、EUV ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、EUVリソグラフィについて、第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィ最新技術動向 ～基礎とレジスト材料開発例、微細化と高出力 ...

Intelが2024年4月18日、アメリカ・オレゴン州ヒルズボロの研究開発拠点で、業界初となる商用高開口数(NA)極端紫外線(EUV)リソグラフィの組み立てを完了したと発表しました。このEUVリソグラフィはオランダの半導体装置大手・ASML製であり、1.4nmプロセスに相当 ...

三井化学株式会社（所在:東京都港区、代表取締役社長:橋本 修）は、今般EUVペリクルの商業生産を開始しましたのでご報告します。当社は、半導体リソグラフィー分野で世界No.1のASML（Veldhoven, the Netherlands; President & CEO: Peter Wennink）から、本EUVペリクル事業の ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せるEUVリソグラフィ技術での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「EUVリソグラフィ 」講座を ...

米誌フォーブスの長者番付によると、米電気自動車（EV）大手テスラのイーロン・マスク最高経営責任者（CEO）の純資産が19日までに約7490億ドルとなり、初めて7000億ドルを突破した。 マーケットcategoryセブン＆アイHD、北米子会社の ...

↓今注目の「投資テーマ」の解説＆銘柄はこちら！↓ 国内の半導体メーカー・ラピダスが、世界のどの企業も 量産化を実現していない「2ナノ半導体」の試作に成功！ 最先端半導体の国産化を目指す半導体製造会社のラピダスは、7月18日に国内で初めて「2 ...