imecとASMLは6月3日(欧州時間)、ASMLの本社があるオランダのフェルトホーフェンに共同で運営する「High NA EUV Lithography Lab」を開設したことを発表した。 同ラボは、最先端のロジックおよびメモリメーカーならびに先端料および製造装置メーカーに ...

Imagine a machine so advanced it operates with light invisible to the human eye, etching circuits onto silicon wafers at scales smaller than a virus. This is the world of EUV lithography, a ...

Intel announced that it had installed ASML's Twinscan EXE:5200B, the industry's first High-NA lithography tool with 0.55 numerical aperture projection optics made for commercial chip production. The ...

imecは、オランダの「ASML-imec high-NA EUV Lithography Lab」にてNA=0.55の高NA EUV露光装置を用いてロジックデバイスおよびDRAMパターンを露光した結果を公表した。 それによると9.5nm(19nmピッチ)のランダムロジック構造、中心間距離30nmのランダムビア、22nmピッチの2D ...

ASML has delivered a first-generation Twinscan EXE:5000 High-NA extreme ultraviolet (EUV) lithography scanner to Intel, seven years after Intel first ordered the machine. The High numerical aperture ...

Samsung is investing 1.1 trillion won (USD 773 million) in the two high-NA EUV machines Samsung Electronics is expected to receive its first high-numerical-aperture (high-NA) extreme ultraviolet (EUV) ...

New VeritySEM ® 10 system delivers industry-leading resolution and imaging speed to help chipmakers accelerate process development and maximize yield in high-volume manufacturing SANTA CLARA, Calif., ...

EUV露光が微細化を10年先まで牽引する 最先端の半導体ロジックやDRAMなどの微細化と高密度化を牽引する、次世代のEUV(Extreme Ultra-Violet : 極端紫外線)露光技術の開発が本格化つつある。開発が順調に進めば、2020年代後半には最先端の半導体で量産を担うことに ...

ウシオ電機、次世代半導体向けEUV光源事業をブランド化 ―「TinPhoenix」としてグローバル展開、事業の本格化へ― ウシオ電機株式会社（本社:東京都、代表取締役社長 内藤 宏治、以下 ウシオ）は、次世代半導体量産プロセスの進展に「光」で貢献するという ...