Imagine a machine so advanced it operates with light invisible to the human eye, etching circuits onto silicon wafers at scales smaller than a virus. This is the world of EUV lithography, a ...

imecとASMLは6月3日(欧州時間)、ASMLの本社があるオランダのフェルトホーフェンに共同で運営する「High NA EUV Lithography Lab」を開設したことを発表した。 同ラボは、最先端のロジックおよびメモリメーカーならびに先端料および製造装置メーカーに ...

Intel announced that it had installed ASML's Twinscan EXE:5200B, the industry's first High-NA lithography tool with 0.55 numerical aperture projection optics made for commercial chip production. The ...

imecは、オランダの「ASML-imec high-NA EUV Lithography Lab」にてNA=0.55の高NA EUV露光装置を用いてロジックデバイスおよびDRAMパターンを露光した結果を公表した。 それによると9.5nm(19nmピッチ)のランダムロジック構造、中心間距離30nmのランダムビア、22nmピッチの2D ...

ASML has delivered a first-generation Twinscan EXE:5000 High-NA extreme ultraviolet (EUV) lithography scanner to Intel, seven years after Intel first ordered the machine. The High numerical aperture ...

New VeritySEM ® 10 system delivers industry-leading resolution and imaging speed to help chipmakers accelerate process development and maximize yield in high-volume manufacturing SANTA CLARA, Calif., ...

EUV露光が微細化を10年先まで牽引する 最先端の半導体ロジックやDRAMなどの微細化と高密度化を牽引する、次世代のEUV(Extreme Ultra-Violet : 極端紫外線)露光技術の開発が本格化つつある。開発が順調に進めば、2020年代後半には最先端の半導体で量産を担うことに ...

Looking at those written in the last week, our most read stories on the site cover a compact fan-less AI edge computer for manufacturing, the fast growth of the automotive chip market, and Imec ...

ウシオ電機、次世代半導体向けEUV光源事業をブランド化 ―「TinPhoenix」としてグローバル展開、事業の本格化へ― ウシオ電機株式会社（本社:東京都、代表取締役社長 内藤 宏治、以下 ウシオ）は、次世代半導体量産プロセスの進展に「光」で貢献するという ...

先端ロジック半導体の量産に向けた、EUV(Extreme Ultra-Violet : 極端紫外線)露光技術の将来像が見えてきた。7nm世代の技術ノードから量産が今年(2019年)にはじまり、2年～3年の間隔で次世代の技術ノードへと移行する。 すなわち5nm世代の量産開始は2021年、3nm世代 ...