According to a report from Tom's Hardware, China's so-called "Frankenstein" EUV scanner was assembled from mismatched parts sourced through various channels, potentially including surplus equipment ...
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「中国が『EUV露光装置』試作機完成」の衝撃…世界の半導体秩序は ...
次に、EUV露光の原理について説明する。光源から放射されるのは、波長13.5nmのEUV光である。この波長の光は空気中の酸素に強く吸収されるため、露光装置内部はすべて真空状態に保たれている。また、13.5nmのEUV光は通常のレンズを透過できない。そ ...
The $400 machine will one day no longer be the crown jewel of the tech economy. Moore’s law will march on, processor power ...
imecとASMLは6月3日(欧州時間)、ASMLの本社があるオランダのフェルトホーフェンに共同で運営する「High NA EUV Lithography Lab」を開設したことを発表した。 同ラボは、最先端のロジックおよびメモリメーカーならびに先端料および製造装置メーカーに ...
Khaberni - An extended scientific video running 55 minutes reveals unprecedented details about one of the most complex and ...
China has built a prototype EUV (extreme ultraviolent) lithography machine in a high-security laboratory in Shenzhen. They had a semiconductor Manhattan Project”. The prototype was completed in early ...
imecは、オランダの「ASML-imec high-NA EUV Lithography Lab」にてNA=0.55の高NA EUV露光装置を用いてロジックデバイスおよびDRAMパターンを露光した結果を公表した。 それによると9.5nm(19nmピッチ)のランダムロジック構造、中心間距離30nmのランダムビア、22nmピッチの2D ...
(MENAFN- Asia Times) China has reportedly built an extreme‐ultraviolet (EUV) lithography machine inside a high‐security laboratory in Shenzhen, in what sources described as a nationally coordinated ...
Then at Intel's Foundry Direct event in April, Intel's chief technology and operations officer Naga Chandrasekaran stated ...
2025年2月23〜27日に開催された半導体リソグラフィー技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography+Patterning」（米カリフォルニア州サンノゼ）では、開口数（NA）を現状の0.33から0.55へ高めた次世代のEUV（極端紫外線）露光に関する発表に注目が集まった。オランダASML ...
Intel has released a movie that approaches the 'EUV system', which is said to be 'the most precise and complicated machine in Intel'. EUV is a technology for pursuing Moore's Law, which has been ...
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