imecとASMLは6月3日(欧州時間)、ASMLの本社があるオランダのフェルトホーフェンに共同で運営する「High NA EUV Lithography Lab」を開設したことを発表した。 同ラボは、最先端のロジックおよびメモリメーカーならびに先端料および製造装置メーカーに ...

独立系先端半導体研究機関であるベルギーimecは、同社の300mm研究ライン「imec Fab 3」の空きスペースに、最新の量産向け高NA EUV露光装置「Twinscan EXE:5200」の設置に向けた台座の取り付け工事を行ったことを同社のLinkedInにて明らかにした。 この取り組みは、EU ...

How Does EUV Lithography Work? EUV Lithography is a state-of-the-art technology in chip manufacturing that uses highly energetic ultraviolet light to carve detailed patterns onto semiconductor ...

China’s EUV effort reached 13.5 nm light generation, with chips not yet produced, helping you gauge AI supply risk and timing ...

2025年2月23〜27日に開催された半導体リソグラフィー技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography+Patterning」（米カリフォルニア州サンノゼ）では、開口数（NA）を現状の0.33から0.55へ高めた次世代のEUV（極端紫外線）露光に関する発表に注目が集まった。オランダASML ...

ASML Holding N.V. (NASDAQ:ASML) is one of the most pivotal companies in the global technology ecosystem. As a leading semiconductor equipment manufacturer, its cutting-edge lithography systems are ...

The United States and its allies believed they had locked China out of the most critical technology needed to build ...

ウシオ電機、次世代半導体向けEUV光源事業をブランド化 ―「TinPhoenix」としてグローバル展開、事業の本格化へ― ウシオ電機株式会社（本社:東京都、代表取締役社長 内藤 宏治、以下 ウシオ）は、次世代半導体量産プロセスの進展に「光」で貢献するという ...

「半導体集積回路の密度が2年ごとに倍増する」という半導体のイノベーションの成長速度を予測した「ムーアの法則」は、近いうちに終焉を迎えると言われています。この法則を提唱したIntelの創業者の1人であるゴードン・ムーア氏も「トランジスタが原子 ...