高性能縦型酸化ガリウム（Ga2O3）トランジスタ作製技術の開発に成功 独自開発したシリコン、窒素をそれぞれ用いたn,p型イオン注入ドーピング技術を採用 低コスト量産が可能、新半導体産業の創出、世界的規模での省エネ実現に期待 国立研究開発 ...

高性能縦型酸化ガリウム（Ga2O3）トランジスタ作製技術の開発に成功 独自開発したシリコン、窒素をそれぞれ用いたn, p型イオン注入ドーピング技術を採用 低コスト量産が可能、新半導体産業の創出、世界的規模での省エネ実現に期待 国立研究開発 ...

分子科学研究所(IMS)は、シリコン太陽電池と同様の、不純物の微量添加(ドーピング)のみによって有機太陽電池を作製することに成功したと発表した。 同成果は、同所 平本昌宏教授、総合研究大学院大学 物理科学研究科博士課程学生 石山仁大氏らによるもの。

ポリマー半導体の電子の数や流れやすさを制御する分子ドーピングは、フレキシブルエレクトロニクスの基盤技術です。しかしながら、分子の「形」や「大きさ」に由来する立体障害と分子ドーピングの関係は未解明でした。 ポリマー半導体の「隙間」の ...

Today we're doping silicon wafers with a phosphoric acid and a fiber laser. ==== Timeline ==== 0:00 Intro 0:39 I have no idea what I'm doing 1:09 Doping silicon 2:21 Thermal diffusion 3:19 Ion ...

Silicon chip manufacturers like Intel and TSMC are constantly outdoing themselves to make ever smaller features, but they are getting closer to the physical limits of silicon. “We already have very, ...