According to a report from Tom's Hardware, China's so-called "Frankenstein" EUV scanner was assembled from mismatched parts sourced through various channels, potentially including surplus equipment ...
Khaberni - An extended scientific video running 55 minutes reveals unprecedented details about one of the most complex and ...
China's reported development of its own extreme ultraviolet (EUV) lithography machine to make advanced semiconductors for artificial intelligence and high-performance computer systems could provide a ...
ノートPCやスマートフォン、AIサーバーなど、既存のハイテク機器の内部には最先端の半導体が組み込まれています。この中には数百億個ものトランジスタが詰め込まれており、そのサイズは最小10nmほどと極小です。そんな超極小のトランジスタを製造する ...
'As the semiconductor dream has become a national security issue, I would not underestimate China's ambition,' Natixis analyst Gary Ng says China's reported development of its own extreme ultraviolet ...
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今市場の増加が見込まれるEUVリソグラフィでの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師陣からなる「半導体微細加工入門 ...
imecは、Beyond 2nm(2nmを超えた微細化)には高出力かつ高開口数の「High-NA EUV露光装置」が必要であり(図2)、唯一のサプライヤであるASMLと「imec-ASML High-NA Lab」を共同設立して実用化研究に取り組んでいるという(図3)。 開口数NA=0.33の従来タイプのEUVリソグラフィは ...
株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる最先端リソグラフィの課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「最先端リソグラフィ技術 ...
サーベイレポート合同会社は、極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の予測評価を提供する2024年8月発行の調査レポート「極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別セグメント（光、光源、オプティクス、マスク、その他）、エンドユーザー別セグメント ...
大日本印刷(DNP)は12月12日、EUVリソグラフィに対応した2nmプロセス以降の微細ロジックプロセス向けフォトマスク上に求められる微細なパターンを解像することに成功したことを発表した。 2nm世代以降のEUVリソ向けフォトマスクの実現には3nmプロセス世代に ...
EUVリソグラフィ向けフォトマスク上に2ナノメートル世代以降の微細なパターンの解像を達成 次世代半導体向けた高NA EUVフォトマスクの評価用フォトマスクの提供も開始 大日本印刷株式会社（本社:東京 代表取締役社長:北島義斉 以下:DNP）は、半導体製造の ...
～強みの半導体ALD材料技術で先端フォトレジストの技術革新に貢献～ 株式会社ADEKA（代表取締役社長兼社長執行役員: 城詰秀尊、本社：東京都荒川区）は、鹿島化学品工場（茨城県神栖市）に次世代EUVリソグラフィ（高NA EUV）向けMOR用金属化合物の ...
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