磁気記録技術に関する世界最大規模の国際会議「MMM/Intermag 2013」が1月18日に無事、閉幕した。現地レポートもこれで最後となる。本レポートではこれまでご紹介できなかった興味深い研究成果をご報告する。 超々大容量ストレージを目指す磁壁メモリ 初めに ...

次世代CMOSロジックは立体化と極薄チャンネル化で1nm時代へ 本コラムの前回でお伝えしたように、半導体のデバイス技術とプロセス技術に関する世界最大の国際学会「IEDM(International Electron Devices Meeting)(通常の呼称は「アイイーディーエム」、日本語の通称は ...

最先端CMOSロジック分野では、ベルギーimecおよび台TSMCからの次世代CMOSロジックであるCFETに関する2件の講演が選出されている。 imecによるハイブリッドチャネル・モノリシックCFET製作プロセス Paper #2.2, “Hybrid Channel Monolithic-CFET with Si (110) pMOS & (100) nMOS(Si(100 ...

ルネサス エレクトロニクスは、28nmプロセス以降における次世代システムLSI向け標準CMOSロジック回路の設計資産(IP)と親和性の高い混載DRAM(embedded DRAM:eDRAM)対応の基本構造を開発したことを明らかにした。2010年12月6日から8日まで米国サンフランシスコで開催さ ...

日本アルテラは17日、同社主催の年次カンファレンスAltera PLD World 2003にて記者発表を行い、2004年の新製品ロードマップなどについて説明した。同カンファレンスは今年で10回目。また、今年米Alteraは設立20周年を迎え（日本法人設立は1990年）、同社にとって ...

Low power design has become a cornerstone of modern integrated circuit development, driven by energy efficiency demands and the challenges of scaling in nanometre technologies. Innovations in ...

The semiconductor industry has relied on a simple equation for more than five decades — shrink the transistor, pack more onto every wafer, and watch performance soar as costs plummet. While each new ...