――ASMLは最先端のEUV（極端紫外線）以外の露光装置でも高いシェアを握っています。ニコンは新型のArF液浸露光装置で「ASML機との互換性」を打ち出しました。

キヤノンは半導体露光装置を柱とするインダストリアル事業の拡大を急いでいる。30年に事業売上高を25年比で約1.6倍の6000億円に引き上げる意欲的な目標を掲げる。

ASMLホールディングの2025年12月期3Qは、0.7％増収、1.1％営業増益。EUV露光装置の受注高が今1Qから増加中で、Low-NA型のスペック上昇に伴う単価上昇、高価格のHigh-NA型の販売が少量だが継続している。 会社側は今後の中国向けの減少を予想しているが、EUV露光 ...

【08月14日 KOREA WAVE】最先端の半導体生産に不可欠な極端紫外線（EUV）露光装置をめぐり、日本がオランダの独占的地位に挑戦状を突きつけた。 特に日本は、コストパフォーマンスに優れた新型装置を開発し、絶対的な影響力を持つオランダの装置メーカー ...

Intelが今回入手したのは、研究開発・試作用高NA EUV露光装置「EXE:5000」(NA=0,55)の初号機となる。これまで初号機はベルギーimecに出荷され、世界中のimecに参加するメンバーカンパニー(Intel、TSMC、Samsung、SK hynix、キオクシアなど)にその後、供給される流れで ...

1EUVで得られるメリットとは？22nmプロセス以下の対応時期はいつごろか？ 2023年より1.1nmプロセス以下対応露光装置の早期アクセスを開始 目次を開く 2022年6月にハワイで開催され、7月5日時点でオンデマンド放映が行われている「2022 IEEE Symposium on VLSI Technology ...

よくわかる Word 2024 ＆ Excel 2024 ＆ PowerPoint 2024 Office 2024／Microsoft 365 対応 [ 富士通ラーニングメディア ] ...

2024年4~6月期の純利益は事前の市場予測を上回った 【ビラサンジョバンニ（イタリア南部）=為広剛】オランダの半導体製造装置大手、ASMLホールディングが17日発表した2024年4〜6月期決算は、純利益が前年同期比19%減の15億7700万ユーロ（約2700億円）だった。

半導体をつくるには数百から1千ほどの作業工程を重ねる。中でも、ウェハーと呼ばれる円い基板に強い光を当てて半導体の回路を焼き付ける「露光」は、最も重要な工程の一つとされる。露光のための装置は、日本企業も強みを持っていた。だが、最先端の ...

昨今の高性能半導体を製造するためには「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」と呼ばれる技術が不可欠で、世界で唯一、オランダの企業ASMLだけが関連機器を製造していますが、アメリカの圧力を受けたオランダの制裁措置の影響でASMLは中国との取引を禁じられて ...

欧州のハイテク拠点、オランダのフェルトホーフェンに本社を置く半導体製造装置メーカー。 1984年に設立されたフィリップスとASMインターナショナルの合弁会社「ASM Lithography」を前身とし、シリコン上に回路パターンを大量に焼き付けるリソグラフィー ...

TOKYO (Reuters) -Dutch semiconductor equipment maker ASML plans to set up a base in Japan's northern island of Hokkaido to support production at a chip plant for Japanese startup Rapidus, the company ...