The hardest part to replicate is the optics. EUV-grade mirrors are produced by a single supplier: Carl Zeiss SMT. They are ...

Khaberni - An extended scientific video running 55 minutes reveals unprecedented details about one of the most complex and expensive machines in the world, the Extreme Ultraviolet (EUV) lithography ...

imecは、オランダの「ASML-imec high-NA EUV Lithography Lab」にてNA=0.55の高NA EUV露光装置を用いてロジックデバイスおよびDRAMパターンを露光した結果を公表した。 それによると9.5nm(19nmピッチ)のランダムロジック構造、中心間距離30nmのランダムビア、22nmピッチの2D ...

昨今の高性能半導体を製造するためには「極端紫外線(EUV)リソグラフィ」と呼ばれる技術が不可欠で、世界で唯一、オランダの企業ASMLだけが関連機器を製造していますが、アメリカの圧力を受けたオランダの制裁措置の影響でASMLは中国との取引を禁じられて ...

ベルギーimecは、2月25-29日に米国カリフォルニア州サンノゼで開催されているSPIE主催の「Advanced Lithography + Patterning Conference 2024」にて、EUVプロセスをはじめ、EUVマスク、および高NA EUVリソグラフィを可能にするために用意された計算リソグラフィ、レジストと ...

高性能な半導体を製造するのに必要な「EUV(極端紫外線)リソグラフィ」という装置を世界で唯一製造するオランダのメーカー・ASMLと、台湾に拠点を置く世界最大の半導体ファウンドリ・TSMCが、中国の台湾侵攻に備えてEUVリソグラフィー装置を遠隔で無効化 ...

ASML, the Dutch semiconductor equipment leader and exclusive supplier of EUV lithography systems, is set to release its ...

2025年2月23〜27日に開催された半導体リソグラフィー技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography+Patterning」（米カリフォルニア州サンノゼ）では、開口数（NA）を現状の0.33から0.55へ高めた次世代のEUV（極端紫外線）露光に関する発表に注目が集まった。オランダASML ...

TSMC just committed $56 billion to AI chip manufacturing capacity. That’s not money disappearing into factories. It’s money ...

半導体をつくるには数百から1千ほどの作業工程を重ねる。中でも、ウェハーと呼ばれる円い基板に強い光を当てて半導体の回路を焼き付ける「露光」は、最も重要な工程の一つとされる。露光のための装置は、日本企業も強みを持っていた。だが、最先端の ...

NYタイムズが「映画『チャイナ・シンドローム』や『ミッション：インポッシブル』並のノンフィクション・スリラーだ」と絶賛！ エコノミストが「半導体産業を理解したい人にとって本書は素晴らしい出発点になる」と激賞!! フィナンシャル・タイムズ ...

「一般論で言えば、オランダからこれらの顧客に向けてDUV（深紫外線）露光システムを輸出する場合、アメリカ政府に許可を申請する必要はない」──。10月14日、半導体露光装置で世界最大手のASMLのロジャー・ダッセン最高財務責任者（CFO）は、2020年7～9 ...