半導体製造を支えるCVDとALD：薄膜形成技術の基礎知識 半導体デバイスの性能は、薄膜形成技術の精度に直結しています。 CVD（化学気相成長）とALD（原子層堆積）は、現代の半導体製造において中核を担う成膜プロセスです。 本記事では、プロセス ...

東京エレクトロン(TEL)は、300mmプロセス対応ALD(Atomic Layer Deposition)成膜装置「NT333」を製品化し、2012年10月より受注を開始すること発表した。 同装置は、従来のALD手法とは異なるコンセプトを用いることで、反応ガスの十分な吸着・酸化による原子レベルでの ...

株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、昨今高まりを見せる「ALD（原子層堆積法）」のニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「ALD（原子層堆積法）」講座 ...

先端技術情報や市場情報を提供している(株)シーエムシー・リサーチ（千代田区神田錦町： https://cmcre.com/）では、 各種材料 ...

みなさんこんにちは！今日は、東北大学らが発表した電子機器内の熱流を自在に制御できるメカニズムを発見したという論文が興味深かったので、取り上げたいと思います💡 今回の発表の概要は以下の通りです👇 ・絶縁膜の熱の流れを自在に制御できる ...